노광

노광(露光)은 사진술, 반도체 제조 공정, 인쇄 등 다양한 분야에서 빛을 사용하여 특정 표면에 이미지를 형성하거나 패턴을 만드는 과정을 의미한다. 일반적으로 빛에 민감한 물질(감광 물질)을 빛에 노출시켜 화학적 변화를 유도하며, 이 변화를 통해 원하는 형태의 이미지를 얻거나 회로 패턴을 형성한다.

사진술에서의 노광

사진술에서 노광은 필름이나 이미지 센서에 빛을 받아들이는 과정을 의미한다. 적절한 노출 시간, 조리개 값, ISO 감도를 조절하여 피사체의 밝기와 색상을 정확하게 기록하는 것이 중요하다. 과도한 노출은 사진이 지나치게 밝게 나오는 결과를 초래하고(과다 노출), 부족한 노출은 사진이 어둡게 나오는 결과를 초래한다(과소 노출).

반도체 제조 공정에서의 노광

반도체 제조 공정에서 노광은 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 핵심적인 단계이다. 포토레지스트라는 감광 물질을 웨이퍼 표면에 도포한 후, 마스크(회로 패턴이 새겨진 판)를 통해 빛을 쬐어 원하는 회로 패턴을 형성한다. 노광 과정의 정확도는 반도체 칩의 집적도와 성능에 큰 영향을 미친다.

인쇄에서의 노광

인쇄 분야에서는 제판 과정에서 노광 기술이 사용된다. 사진 제판이나 스크린 인쇄 등에서 감광액을 도포한 판에 빛을 쬐어 원하는 이미지를 형성하고, 이를 이용하여 인쇄를 진행한다.

기타

노광은 때로는 단순히 '빛에 노출됨'을 의미하기도 한다. 예를 들어, "자외선에 노광되면 피부에 손상을 입을 수 있다"와 같이 사용될 수 있다.

같이 보기

• 노출 (사진)
• 포토레지스트
• 리소그래피
• 마스크 (반도체)